Multi-Arc Ionining Plastmassasining Ishlash Printsiplari va Texnik xususiyatlari

Ko'p dvigatel ion qoplamasi - vakuumli bug'lanish va vakuumli pushtirish asosida ishlab chiqilgan yangi qoplama tayyorlash texnologiyasi. Bundan tashqari, bug 'bug'lanish manbasi uchun vakuum ark tushishini ishlatadigan vakuum arc bug'lanishi deb ataladi. Ko'p yoyli ionli qoplama texnologiyasi yuqori cho'kma tezligi, yaxshi qoplamali yopishqoqlik, zich qoplama va qulay foydalanish xususiyatlariga ega bo'lgani sababli, materiallarni sirtifikatsiya qilish sohasida keng qo'llaniladi.

1963 yilda Mattox ilk marotaba ion qoplama texnologiyasini taklif qildi va ishlatdi; 1972 yilda Bunshah va boshqalar faol reaktiv bug'lanish (ARE) texnologiyasini ishlab chiqdi; 1973 yilda Mulayama va boshq. radio chastotasini qo'zg'atuvchi ion qoplamini kashf qildi. 1980-yillarda ion qoplamasi dunyoda yuqori texnologiyali sanoatga aylandi. Asosiy mahsulotlarga yuqori tezlikda po'lat va qattiq qotishma vositalari bo'yicha TiN, TiAlN aşınmaya bardoshli qatlamlar va TiN imitasyonlu oltin dekorativ qoplamalar kiradi. 1982-yilda Qo'shma Shtatlarning Multi-arc kompaniyasi birinchi marta multi-ariqli ion qoplamalar uchun tijorat uskunalarini ishga tushirgan va 1986 yilda Xitoy ko'p devorli ionli qoplama uskunalarini ishlab chiqarishni yo'lga qo'ygan. 1990-yillarda ion qoplama texnologiyasi katta muvaffaqiyatlarga erishdi. 80-yillar bilan taqqoslaganda, ion qoplama uskunalari va texnologiyasi ancha yaxshilandi. So'nggi yillarda turli xil ion qoplama uskunalari turli xil foydalanish talablariga muvofiq ishlab chiqarilgan bo'lib, ulardan ba'zilari sanoat ishlab chiqarish darajasiga etgan.

Ko'p yoyli ionli qoplama ish printsipi

Ko'p dvigatelli ionli qoplama texnologiyasining ish printsipi asosan sovuq katotli vakuumli qazish oqimi nazariyasiga asoslanadi. Vakuum kamonini tortib olgach, katodning yuzasida bir nechta keskinliklar, turli xil o'lchamlar va shakllar yorqin va turli xil joylar paydo bo'ldi. Ular katodning yuzasida tezda tartibsiz harakat qiladilar, ba'zi joylar o'chadi va boshqa joylarda dog'larni yondirish uchun ba'zi joylar paydo bo'ladi. Katod nuqta zichligi 104 ~ 105A / sm2 ga teng va 1000 m / s tezlikda metall bug'ini chiqaradi, har bir 10 elektron uchun bir metall atom ishdan chiqarilishi mumkin. Keyinchalik, bu atomlar keyinchalik yuqori energiyali ijobiy ionlarga ionlashtiriladi. Mo'tadil ion vakuum kamerada ishlaganda va ishlov beriladigan qismning sirtiga biriktirilganda boshqa ionlar bilan birlashtiriladi.

Vakuum burmali oqim nazariyasi elektr miqdori migratsiyasi, asosan, elektron elektron emissiyasi va ijobiy ion oqimlari bilan bog'liq. Va bu ikki mexanizm bir vaqtning o'zida mavjud va bir-birlarini cheklaydi. Bo'shatish jarayoni davomida katot moddasi ko'p miqdorda bug'lanadi. Ushbu bug 'hosil qilingan atomlar tomonidan ishlab chiqarilgan ijobiy ionlar katod yuzasiga juda yaqin masofada juda kuchli elektr maydon hosil qiladi.

Ko'p yoyli ion qoplamalarining texnik xususiyatlari

Ko'p yordikli ion qoplama jarayonining eng muhim xususiyati, yuqori darajada ionlashtirilgan bug'langan materiallardan iborat plazma ishlab chiqarishdir. Bug'lanish, ionlash va tezlashtirish katod nuqta va ularning atrofida kichik joylarda to'plangan.

Xususiyatlari:

(1) plazma to'g'ridan-to'g'ri katoddan ishlab chiqariladi.

(2) Yuqori zarracha zarralari energiya va qoplama zichligi, yaxshi quvvat va chidamlilik.

(3) Yuqori ionizatsiya darajasi va odatda 60% - 80%

(4) Cho'kma tezligi tezda va qoplama xususiyati yaxshi.

(5) Uskunalar nisbatan sodda va past kuchlanishli elektr ta'minoti bilan ishlash xavfsizroq.

Texnik tadqiqotlar natijalari

IKS   mahalliy va xorijiy kompaniyalar va ilmiy-tadqiqot institutlari bilan faol hamkorlik qilmoqda va yanada kengroq qo'llaniladigan qoplama dasturlarida quvonchli yutuqlarga erishdi. Qoplama jarayoni filmning yuqori qattiqlik, termal stabillik va kimyoviy muvozanat bilan qoplanishi uchun ishlatilishi mumkin. TiN, TiCN, AlTiN, AlTiSiN, CrN, DLC va boshqalar kabi turli xil jismoniy bug' cho'kma qoplamalar.