ZnO: Al (AZO) yupqa filmlarni ishlab chiqarish jarayoni Magnetronli bo'g'imlarni qoplash bilan

ZnO: Al (AZO) yupqa filtrlarini magnetronli pushti qoplama bilan ishlab chiqarish jarayoni

Bugungi kunda asosiy nozik kino quyosh xujayralari quyidagilardan iborat: CD (CdTe) nozik kino quyosh xujayralari, se (MDH) nozik kino quyosh xujayralari, amorf silikon yupqa kino quyosh xujayralari va kristalli silikon nozik kino quyosh xujayralari. Tadqiqotchilar ZnO zarbini ishlab chiqdi: arzon, xom ashyolarga boy, toksik bo'lmagan va barqaror ishlashga ega bo'lgan tishli tuzilmalar. Azot-transparent Supero'tkazuvchilar kater-krater-liyat shakli bilan quyosh nurining tarqalish effektini kuchaytirishi, ta'qib ta'sirini yaxshilash, batareyaning quyosh energiyasini so'rib olishini oshirish va nozik kino quyosh pillerini konvertatsiya qilish samaradorligini oshirish mumkin. Shisha substratda AZO transparan Supero'tkazuvchilar filmni tayyorlash uchun magnetronli porlab qoplama jarayoni tez plyonka shakllanishi, bir xil kino qatlami va katta kino hosil qilish sohasining afzalliklariga ega.

Magnetronli pushtirish qoplamasining asosiy printsipi: maxsus ishlab chiqilgan anot va katod yopiq vakuum kamerasiga joylashtirilgan, bu erda katot spatter materiallari bilan jihozlangan va Ar, O2, N2 va boshqa gazlar vakuum kamerasiga to'ldirilgan. Tashqi kuchlanish ta'sirida jarayon gaz molekulalari ionlashni va plazma hosil qiladi. Ijobiy zaryadlangan ionlar katodga elektr maydon orqali yo'naltiriladi va ular maqsadli materialning yuzasini bombardimon qilishadi. Bombalanan maqsadli atomlar, ma'lum bir tezlikda, shisha yuzasida nozik bir plyonka hosil qilish uchun biriktiradilar. Maqsadli materiallarni tanlash bo'yicha hozirda magnetronli pushtirish jarayoni orqali AZO ning shaffof Supero'tkazuvchi filmini ishlab chiqarishda qo'llaniladigan ikki turdagi maqsadli materiallar mavjud. Sink - alyuminiy qotishma maqsadi. Haqiqiy vaziyatga muvofiq, tegishli maqsadli mahsulotlarni tanlang. Shisha substratning isitish harorati bo'yicha, shisha substratning harorati past bo'lganligi, substratdagi kino atomlarining harakat qobiliyati yomon ekanligi, kino hosil qilish tezligi pasayishi, kino qatlamining pasayishi, kino va shisha substrat o'rtasida bog'lovchi quvvat zaiflashadi va qarshilik kuchayadi. Yuqori shisha temperaturasi, nozik kino rivojlanishida, membrana qatlami tekis bo'lib, quyoshning yuqori nur o'tkazuvchanligi membrana qatlami, umumiy substrat harorati 200-300 ℃ orasida bo'lishi kerak . Chuqur gaz bosimini tanlash bo'yicha magnetronli pushtirishning tegishli bosim diapazoni 1.33 x 10-1 Pa ~ 1.33 x 10-2 Pa kuchga ega buyurtma. Bosim juda yuqori yoki juda past bo'lsa, yaxshi sifatli AZO transparent Supero'tkazuvchilar filmning shakllanishiga yordam bermaydi.

Yangi TCO materiallari sifatida AZO ITO va FTO bo'yicha katta afzalliklarga ega. Keng miqyosli sanoatlashtirishga erishish uchun uskunalarni va texnologik xarajatlarni qisqartirish bo'yicha keyingi tadqiqotlar va ishlarni amalga oshirish kerak. Asosan, AZO ning nozik filmlari strukturaviy ishlashi ularning fotoelektrik ko'rsatkichlarini aniqlaydi. Yuqori sifatli va arzon narxlardagi g'alaba qozonish holatiga erishish uchun jarayon parametrlari bo'yicha ko'proq tadqiqotlar o'tkazish kerak.

IKS PVD siz uchun mos PVV vakuum qoplama mashinasini moslashtirdi, hozir biz bilan bog'laning,

iks.pvd@foxmail.com