PVD qoplama usuli

PVD qoplama usuli
Ishlab chiqarishda keng tarqalgan bo'lib qo'llaniladigan ikkita qoplama usuli mavjud: jismoniy bug 'cho'kishi (PVD) va kimyoviy bug'ning cho'kishi (CVD). Birinchisining cho'kma harorati 500 ℃ va qoplama qalinligi 2-5 mkm. Ikkinchisining cho'kma harorati 900 ℃ ~ 1100 ℃, qoplama qalinligi 5 ~ 10 mkm ga yetishi mumkin va uskuna oddiy bir xil qoplamadir. PVD usuli yuqori tezlikda ishlaydigan po'latning temperatura haroratidan oshmaganligi sababli, yuqori tezlikda po'latdan yasalgan asbob odatda PVD usulidan foydalanadi va sementlangan karbid asosan CVD usulidan foydalanadi. Yuqori cho'kma harorati tufayli qoplama va substrat o'rtasida mo'rt dekarburizatsiya qatlami (ē faza) osongina hosil bo'ladi, bu esa karbid pichog'ining mo'rt sinishiga olib keladi.
Asbobning har bir qatlamini qoplang
So'nggi o'n yilliklarda qoplama texnologiyasining rivojlanishi bilan PVD usuli ham sementlangan karbid uchun ishlatilishi mumkin. Xorijiy mamlakatlarda PVD / CVD kombinatsiyalangan texnologiyasi, PACVD usuli (plazma kimyoviy bug 'cho'kishi) deb nomlanuvchi kompozit qoplama jarayonini ishlab chiqdi. Boshqacha qilib aytganda, plazma kimyoviy reaktsiyani rag'batlantirish uchun ishlatiladi va qoplama harorati 400 ℃ dan pastga tushirilishi mumkin (qoplama harorati 180 ℃ ~ 200 ℃ ga tushirilishi mumkin), shunda diffuziya, faza o'zgarishi yoki bo'lmaydi. karbid matritsasi va qoplama materiali o'rtasidagi almashinuv reaktsiyasi va pichoqning asl qattiqligi saqlanishi mumkin. Ushbu usul, ayniqsa, olmos va kub bor nitridi (CBN) o'ta qattiq qoplamalarni qoplash uchun samarali ekanligi xabar qilinadi.

IKS PVD kompaniyasi, dekorativ qoplama mashinasi, asboblarni qoplash mashinasi, optik qoplama mashinasi, PVD vakuumli qoplama liniyasi, kalit taslim loyihasi mavjud.Hozir biz bilan bog'laning, E-mail:iks.pvd@foxmail.com