PVD texnologiyasi to'rtta jarayon bosqichi

PVD texnologiyasi to'rtta ish bosqichidan (1) ish qismini tozalash: dc quvvat manbai ustiga joylashtirilgan, argon ioni sifatida argon nurlanishini tushirish, ish qismi sirtini argon ioni bilan bombalash, ish qismining sirt zarralari va iflos qismlarini uloqtirish; (2) qoplama materialining gazlanishi: ya'ni o'zgaruvchan tok joriy etilgandan so'ng, qoplama materialining bug'lanishi. (3) qoplama material ionlarining ko'chishi: to'qnashuv va yuqori kuchlanishli elektr maydonidan so'ng, gazlashtirish manbasidan atomlar, molekulalar yoki ionlar ish qismiga yuqori tezlikda yugurdilar; (4) qoplama materiallari atomlari, molekulalari yoki ionlari substratga yotqiziladi: ishlov berish yuzasida bug'lanish materiali ionlari to'kilgan ionlar sonidan oshib ketganda, ular asta-sekin to'planib, sirtiga mahkam yopishgan qatlam hosil qilishadi. ish qismi. Ion qoplamini zarralar bilan ionlashdan so'ng, bug'lanish materiallari besh ming elektron voltning kinetik energiyasiga uch mingtaga, yuqori tezlikda bombardimon qilinadigan artefaktlarga ega, nafaqat depozit tezligi yuqori, balki matritsa diffuziya qatlamiga chuqur kirib, sirtga kirishga qodir. , ion qoplamasining interfeysi bilan diffuziya chuqurligi to'rt yoki besh mikronni tashkil qiladi, ya'ni oddiy vakuumli qoplamali diffuziya chuqurligi o'nlab marta, hatto yuz marta chuqurlashib, bir-biriga juda tez yopishgan.

IKS PVD Technology (Shenyang) Co, Ltd , Xitoydan ishlab chiqarilgan PVD vakuumli qoplama mashinasi ishlab chiqaruvchisi, bizning asosiy mahsulotimiz: dekorativ qoplama mahcine, asboblarni qoplash mashinasi, optik qoplama mashinasi, PVD qoplama liniyasi. Batafsil ma'lumotlar, aloqa: iks.pvd@foxmail. com