Elektron nurlarining bug'lanishini qo'llash

Elektron nurlarining bug'lanishini qo'llash - elektron nurlar bug'lanishi bilan TiO 2 plyonkasini tayyorlash.

TiO 2 plyonkasini tayyorlash uchun elektron nurlarning bug'lanishi, quyidagi rasmda ko'rsatilgandek, ion nurli yordamchi elektron nurli bug'lanish yordamida INTEGRITY-39 avtomatik optik qoplama tizimidan foydalaniladi.

0010010 nbsp; 1. Sovutish suvi kirish joyi; {{2}}. Sovutadigan suv chiqishi; 3. Crucible; 4. Beam bobini; 5. Elektron nur uzatgich; 6. Isitish lampasi; 7. Substrat ramkasi; 8. Motor; 9. Monitoring filmi; 1 0. Ion manbaini qoplash orqali tayyorlangan namunali elektron qurolning ish kuchlanishi 1 0 kV, oqim {{2}} 00 A, vakuum kamerasining cho'kish harorati 1 45 ~ 1 55 ℃. Membran materiali uchun qora {granulali Ti 2 O 3 tozaligi bilan 9 9. 99% tanlangan. Cc - 1 05 yordamchi cho'kma uchun sovuq katot ion nuridan foydalanilgan. Cho'kish paytida vakuum xonasi O 2 reaktsiya gazi sifatida 9 9 tozaligi bilan to'ldirilgan. 99%. Qoplamasdan oldin, substrat shisha eritma bilan tozalanadi, deionizatsiya bilan yuviladi 0010010 nbsp; suv va azot bilan quritilgan. Keyin substrat har bir 15 minut uchun 99. 9% aseton va suvsiz etanol ultrasonik to'lqin bilan tozalanadi. Maxsus artilgan qog'oz bilan quritgandan so'ng, u vakuum kamerasiga o'rnatiladi. Vakuum mexanik nasos va diffuziya nasosi bilan {{5}}. 5 × 10-4pa pompalanganda, avtomatik qoplama jarayoni o'rnatiladi. Substrat 1 5 0 ℃ cho'kma haroratiga qizdirilganda, ion manbai substratni bombalashni boshlaydi va energiya {{5}} 0 ~ 9 0 da boshqariladi. 10 daqiqa uchun eV

keyin elektron tabancasi avtomatik ravishda kino materialini qizdira boshlaydi va bug'lay boshlaydi va cho'kish tezligi 0 ga teng. 38 ~ 0. 42 nm / s. Qatlam 440 nm dizayn qalinligiga tushganda, dastur avtomatik ravishda elektron tabancani yopadi va qoplama tugallanadi. Qoplamadan so'ng, vakuum xonasi tabiiy ravishda xona haroratiga qadar sovutilgan va namuna olingan. TiO 2 namunasining spektral sinovi Lambda 900 (sinov oralig'i 175 ~ 3 300 nm) spektrofotometr bilan o'tkazildi. TiO 2 plyonkasining haqiqiy qalinligi, yo'qolib ketish koeffitsienti va sinishi indeksi Macleod dasturi konvertlari usuli bilan hisoblab chiqilgan. Har xil vakuum darajalarining kino hosil qilish qobiliyatiga ta'siriy, vakuum kamerasiga yuqori tozaligi bo'lgan kislorodning turli oqimlari bilan, TiO 2 ning sinishi indeks va yutilish koeffitsienti o'rganildi. TiO 2 ingichka plyonka yuqori vakuum darajasida ion manbai yordamida bug'lanish orqali to'planganida, vakuum darajasining kislorod o'tishi bilan o'zgarishi quyidagi jadvalda keltirilgan. Vakuum kamerasidagi kislorod molekulalari kislorod ionlariga ionlanadi va Ti {{2} O O 3 bug 'molekulalari bilan to'liq reaksiyaga kirishadi, kislorod Ti {{{{4} parchalanishida yo'qoladi. }}} O 3 to'ldirildi va filmda hosil bo'lgan TiO 2 nisbatan toza. Ammo, kislorod bilan ta'minlanmasa yoki Ti {{2}} O 3 va O 2 o'rtasidagi reaktsiya etarli bo'lmasa, yuqori assimilyatsiya qilingan titan oksidi plyonkali {{{{ 4}}}} n - 1 (n=1, {{2}}, ..., 1 0). Kislorod oqimining ko'payishi bilan bug 'ko'tarilishi jarayonida TiO 2 bug' molekulalari va kislorod molekulalari o'rtasidagi to'qnashuv ehtimoli oshadi va energiya yo'qoladi, bu esa substratda to'plangan TiO 2 ning kinetik energiyasini kamaytiradi. yuzasiga ta'sir qiladi va yotqizilgan plyonkaning yopishishiga va zichligiga ta'sir qiladi. Optik yupqa plyonkalar uchun ion manbai yordamchisi substrat yuzasida molekulalarning kinetik energiyasini oshirishi mumkin, nafaqat filmning sinishi indeksiga sezilarli ta'sir ko'rsatadi, balki kino zichligi va namlik qarshiligini yaxshilaydi va plyonka substratda yopishish ham sezilarli darajada yaxshilanadi.

IKS-OPT2700 optical E-gun vacuum coating machine，more details,contact: iks.pvd@foxmail.com